O Instituto Nacional de Ciência e Tecnologia Industrial Avançada (AIST) do Japão se unirá à fabricante norte-americana de chips Intel para construir um centro de pesquisa e desenvolvimento no Japão para tecnologia de ponta na fabricação de semicondutores, de acordo com pessoas familiarizadas com o desenvolvimento. assunto. com a parceria.
A nova instalação, a ser construída dentro de três a cinco anos, contará com equipamento de litografia ultravioleta extrema (EUV). Os fabricantes de equipamentos e empresas de materiais pagarão uma taxa para usar as instalações para prototipagem e testes. Este será o primeiro centro no Japão onde diferentes participantes da indústria poderão fazer uso conjunto de equipamentos EUV.
A AIST, que opera sob o Ministério da Economia, Comércio e Indústria, administrará as instalações, enquanto a Intel fornecerá experiência na fabricação de chips usando a tecnologia EUV. Espera-se que o investimento total no centro atinja centenas de milhões de dólares.
A medida visa desenvolver ainda mais a experiência existente do Japão nas indústrias de equipamentos e materiais para fabricação de chips.
EUV é uma tecnologia essencial para a fabricação de semicondutores na escala de 5 nanômetros e abaixo. O número refere-se ao número de nanômetros – bilionésimos de metro – entre transistores em um chip. Quanto menor o número, mais transistores podem ser inseridos no chip, aumentando assim o poder de computação.
O equipamento EUV custa mais de 40 mil milhões de ienes (273 milhões de dólares) por unidade, um investimento que é difícil para os fornecedores de materiais e equipamentos fazerem por conta própria.
Muitas empresas que trabalham neste espaço utilizam equipamentos EUV pertencentes a institutos de investigação no estrangeiro, como o Imec na Bélgica, para desenvolver os seus produtos. No Japão, a fabricante de chips Rapidus planeja lançar equipamentos EUV para fabricação em dezembro, mas até agora os institutos de pesquisa no Japão não possuíam tais equipamentos.
À medida que a concorrência estratégica entre os Estados Unidos e a China se intensifica, Washington reforçou as restrições às exportações relacionadas com o EUV para a China, incluindo equipamentos e materiais. Também retarda o processo de transporte de dados de pesquisas realizadas em instalações fora do país para o Japão. A disponibilidade de equipamento EUV numa instituição de investigação nacional eliminará este obstáculo.
A holandesa ASML Holding domina a fabricação de equipamentos de litografia EUV.
No entanto, a produção de chips requer mais de 600 processos e o desenvolvimento de equipamentos e materiais relacionados é essencial.
Entre as empresas japonesas, a Lasertec tem 100% de participação de mercado em equipamentos de inspeção relacionados a EUV, enquanto a JSR e outras têm pontos fortes em materiais fotossensíveis usados para fazer circuitos em pastilhas de silício. Através do novo centro de investigação, a Intel pretende aprofundar a sua relação com estes fornecedores de materiais e equipamentos.
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